GE VMIVME-5565-11000 332-015565-110000P Reflective Memory Node Card

GE  VMIVME-5565-11000 332-015565-110000P反射内存节点卡

它专为需要超高速、确定性数据共享的工业实时计算、分布式数据采集和嵌入式系统应用而设计。

核心功能和特点：

反射内存技术：这是该卡的核心。当数据写入网络中任意节点的反射内存时，它会通过光纤网络自动且即时地广播到网络中所有其他节点的内存中。这实现了多个系统之间超低延迟、高带宽的数据共享，无需复杂的软件协议。
高速光纤网络：
串行传输速率高达 2.12 Gbaud。
有效的网络数据传输速率可达 43 MB/s（4 字节数据包）至 170 MB/s（64 字节数据包）。
支持动态数据包大小（4 至 64 字节）。

长距离连接：
使用多模光纤时，节点间最大传输距离可达300米。
使用单模光纤时，节点间最大传输距离可扩展至10公里。
大规模网络：单个网络最多可支持256个节点，满足大型分布式系统的需求。
大容量内存：板载64MB或128MB SDRAM作为反射内存。VMEbus
接口：采用标准6U VMEbus规格，可直接插入VME机箱，提供高达40 MB/s的VMEbus传输速率。

强大的数据处理能力：
两个独立的DMA通道可在VME总线和反射内存之间高效传输数据。
网络中断支持允许任何节点向所有节点或所有其他节点发送中断信号。
高可靠性：
内置错误检测机制。
冗余传输模式增强了系统的容错能力。

主要技术参数：

接口：VMEbus（6U）
反射内存：64MB 或 128MB SDRAM
网络速度：2.12 Gbaud（串行），43-170 MB/s（有效数据）
最大节点数：256
光纤连接距离：
多模光纤：300 米
单模光纤：10 公里
工作温度：-40°C 至 +85°C（工业级宽温范围）
输入电压：5VDC
功耗：约 10W
物理尺寸：6U VME 标准板
重量：约 200g

应用：

该卡广泛应用于对实时性要求极高的应用领域，例如：

工业自动化和过程控制

电力系统监控与保护

航空航天和国防（雷达、模拟）

科学研究（粒子加速器、实验设备）

交通运输（铁路信号系统）

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其他产品型号：

General Electric Company, GE

GE is an American multinational industrial and technology giant with over 130 years of history. Founded in 1892, the company was formed through the merger of Thomas Edison’s Edison Electric Light Company and the Thomson-Houston Electric Company. Headquartered in Connecticut, GE is the only company to remain a component of the Dow Jones Industrial Average since its inception in 1896 and is known as a “symbol of American industry.” Core Information Overview

Company Name: General Electric

Founder: Thomas Edison (whose Edison General Electric Company was one of the predecessors of GE)

Founded: 1892 (through the merger of Edison General Electric and Thomson-Houston Electric)

Headquarters: Boston, Massachusetts, USA

Historical Status: An original component of the Dow Jones Industrial Average (added in 1896, removed in 2018 after 110 years)

Current Status: Completed the split, becoming three independent, publicly traded companies focused on their respective sectors.

GE’s Development in China
GE entered China in 1906, making it one of the earliest multinational corporations to do business there.

1908: Established its first light bulb factory in Shenyang.

1979: Reestablished trade relations with China, initiating modern cooperation.

1991: Established its first joint venture, GE Aviation Medical Systems Co., Ltd. (Beijing).

Current Location:

GE Healthcare: Employees exceed 4,000 in China, with production bases in Beijing, Shanghai, and Wuxi.

GE Aviation: Provides LEAP engine technical support for COMAC’s C919.

GE Vernova: Participates in major projects such as the West-East Gas Pipeline, wind power, and hydropower, providing gas turbines, compressors, and water treatment technologies.

Smart Manufacturing: Opened its first Smart Manufacturing Technology Center outside the United States in Tianjin in 2017.